- 型号
CL系列
- 产品别名
扩散炉
- 用途
扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺
- 适用行业
工业
- 产品用途
扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺
- 规格
CL-4514
- 温度范围
400～1280℃
- 电压
380V
- 电流
24kw
- 工艺管数量
2管
卧式6寸两管退火炉供大规模集成电路、MEMS 生产线用做6"硅片的合金、氧化、退火、烧结、扩散等工艺使用。同时也可下沉工艺，完成4寸wafer 的相应工艺。
一、设备结构:
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圆形6寸片
3、工艺布局:满足客户工艺要求
4、自动化程度:工控机控制系统自动控制工艺流程
5、送取片方式:手动进出舟。
6、外形:主机1台，主机架为卧式两管。
二、主要技术参数:
1、加热炉管有效口径:满足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。
2、工作温度范围:上管:600~1400℃
下管:200~500℃
3、恒温区长度及精度:600mm，
上管:800-1400℃.±0.2℃/24h
下管:200-500℃.±0.2℃/24h
4、控制方式:由工控机统一管理工艺
5、气路设置:每管两路气体:氮气100L/min.氩气100L/min。均采用MFC自动控制流量大小。
