Pfeiffer 分子泵组应用于脉冲激光沉积系统

Pfeiffer 分子泵组应用于脉冲激光沉积系统

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成，整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质，对环境的清洁度要求较高，必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小，清洁无油（前级泵配备干泵）、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。

客户案例一：南京某大学物理学院

1.系统功能：主要用于Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金属膜的制备

2.真空度要求: 真空度< 1x10^-8 mbar
3.样品尺寸：大约1cm²
4.基板加热温度：700至1000度
该PLD系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵组 pfeiffer HiCube 80 Eco
正在促销中，详情：http://www.hakuto-vacuum.com/shownews.asp?id=353
2.涡轮分子泵 pfeiffer Hipace 700

客户案例二：上海某研究所  脉冲激光沉积系统基本规格:

1.系统功能：主要用于制备有机自旋阀器件，还可用于制备有机发光二极管、太阳能电池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.样品尺寸：直径2’
4.基板加热温度：1000度
5.镀膜方式：Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生长控制模式：镀率/厚度/时间 控制模式
该PLD系统 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵组 pfeiffer HiCube 80*7
2.涡轮分子泵 pfeiffer Hipace 300*2



伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及美国 Brooks CTI Cryo pump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.Gamma离子泵
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