适合的应用：
◆ 化学气相沉积法制备高品质单晶金刚石（基台直径5厘米）;
◆ 化学气相沉积法制备石墨烯、碳纳米管、富勒烯和金刚石膜等各种碳纳米薄膜。
产品特点：
◆ 本产品为不锈钢腔体式5kw微波等离子体设备，功率密度高；
◆ 水冷式基片台和水冷式金属反映腔，系统能长时间稳定工作；
◆ 基片温度以微波等离子体自加热方式达到；
◆ 真空测量仪表采用全量程真空计，可测量本底真空和工作气体压强；
◆ 真空泵及阀门采用涡轮分子泵(极限真空为1x10-5Pa)和旋片式机械真空泵(极限真空为6x10-2Pa)，装置可调节高真空隔膜阀和并联高真空微调阀控制沉积气压；
◆ 配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下可长时间安全稳定运行；
◆ PLC自动控制和手动操作两种操作模式，工艺流程可重复；
◆ 可配置沉积气压自动控制模块与全自动工艺控制模块，以便于稳定可靠地制备高品质金刚石薄膜和晶体。
