磁控溅射镀膜机靶枪

*** 技术参数：
1、多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1"、2" 、60mm和 3"靶，以及矩形靶枪可供选择；
2、安装法兰口径：NW63CF，NW100CF或定制尺寸；
3、真空腔体内长度范围：150-400mm；
4、真空腔体内端面直径：60-96；
5、靶材直径： 1"、2" 、60mm和3"；
6、靶材厚度：4-6mm；
7、冷却：水冷。

*** 特点：
1、可以做直流和射频溅射；

2、可以溅射磁性及非磁性材料；

3、模块化磁场排布；

4、冷却水和磁铁不直接接触；

5、超高真空（UHV）应用；

水冷时不会存在水汽

8、工作压力范围宽（0.5-1Torr）。

9、有较高的溅射速率和沉积均匀性。

10、高强度磁体应用于磁性材料

*** 可选部件：

1、+/- 45°倾斜装置。

2、原位倾斜装置。

3、集成在靶上的气环。

4、圆锥形靶罩，用于非轴向溅射。

5、超高真空Z轴手动移动和气动挡板。

6、复合法兰。

7、其它特殊要求。

*** 应用领域：
1、PVD沉积
2、金属涂层
3、纳米结构薄膜
4、多层镀层
5、反应溅射
6、射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射

7、硬质涂层