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北京维意真空技术应用有限责任公司

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于经理

PECVD镀膜设备

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PECVD镀膜设备

价  格:面议

品  牌:维意真空

所 在 地:北京市 北京 大兴区

应用领域:应用在半导体  电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀(CVD)、镀膜等 新材料新工艺领 

产品卖点:设备外观更加简洁,整体结构合理,占地面积减小

该系列PECVD系统具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统,动态衬底温控,全面控制真空系统,采用集中现场控制总线技术的“值守精灵”控制软件,以及友好用户操作界面来操作。适用于室温至1400℃条件下进行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料,尤其适合于有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。

 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染;上开启结构,式样观察方便;触屏人机对话整体性操作,安全可靠;;产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示;真空系统、工作压强、电源系统及自动匹配、工艺气体流量、加热系统、运动系统、工艺过程、系统监控及数据采集等。


产品基本功能:

加热炉膛移动的速度可以调节。


  • 加工定制
  • 电镀位置
  • 其他
  • 镀种
  • 真空镀膜
  • 适用范围
  • 适用于新材
  • 电镀电源
  • 双脉冲电源
  • 品牌1d
  • 维意真空
  • 产地1d
  • 大兴区

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手机:15611171559

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地址:北京市大兴区旧桥路25号院3-1203

 

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诚信:A+ 资信参考:  
  • 企业性质:生产商
  • 企业主营:ALD设备 PECVD设备 磁控溅射镀膜机 
  • 年 产 值:人民币 200万-500万元
  • 员工人数:11-50人
  • 联系方式:于先生查看联系方式
  • 企业地址:北京市大兴区旧桥路25号院3-1203