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PLD脉冲激光沉积镀膜设备

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PLD脉冲激光沉积镀膜设备

价  格:面议

品  牌:维意真空

所 在 地:北京市 北京 大兴区

应用领域:用于制备氧化物薄膜、超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等 

产品卖点:沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀

 

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   PLD的机制

 

  PLD的系统设备简单,相反,它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及最后的膜生成过程。所以,PLD一般可以分为以下四个阶段:

 

  1. 激光辐射与靶的相互作用

 

  2. 熔化物质的动态

 

  3. 熔化物质在基片的沉积

 

  4. 薄膜在基片表面的成核(nucleation)与生成

 

  在第一阶段,激光束聚焦在靶的表面。达到足够的高能量通量与短脉冲宽度时,靶表面的一切元素会快速受热,到达蒸发温度。物质会从靶中分离出来,而蒸发出来的物质的成分与靶的化学计量相同。物质的瞬时溶化率大大取决於激光照射到靶上的流量。熔化机制涉及许多复杂的物理现象,例如碰撞、热,与电子的激发、层离,以及流体力学。

 

  在第二阶段,根据气体动力学定律,发射出来的物质有移向基片的倾向,并出现向前散射峰化现象。空间厚度随函数cosnθ而变化,而n>>1。激光光斑的面积与等离子的温度,对沉积膜是否均匀有重要的影响。靶与基片的距离是另一个因素,支配熔化物质的角度范围。亦发现,将一块障板放近基片会缩小角度范围。

 

  第三阶段是决定薄膜质量的关键。放射出的高能核素碰击基片表面,可能对基片造成各种破坏。下图表明了相互作用的机制。高能核素溅射表面的部分原子,而在入射流与受溅射原子之间,建立了一个碰撞区。膜在这个热能区(碰撞区)形成后立即生成,这个区域正好成为凝结粒子的最佳场所。只要凝结率比受溅射粒子的释放率高,热平衡状况便能够快速达到,由於熔化粒子流减弱,膜便能在基片表面生成。[1]

 

  PLD主要优点

 

  1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;

 

  2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;

 

  3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;

 

  4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性;

 

  5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。

 

  • 加工定制
  • 镀种
  • 真空镀膜
  • 型号
  • HCPLD-80
  • 电镀电源
  • 双脉冲电源
  • 品牌1d
  • 维意真空
  • 产地1d
  • 大兴区

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诚信:A+ 资信参考:  
  • 企业性质:生产商
  • 企业主营:ALD设备 PECVD设备 磁控溅射镀膜机 
  • 年 产 值:人民币 200万-500万元
  • 员工人数:11-50人
  • 联系方式:于先生查看联系方式
  • 企业地址:北京市大兴区旧桥路25号院3-1203